詳情介紹：
一、設(shè)備概述：
超純水處理設(shè)備
超純水應(yīng)用領(lǐng)域：在制藥和某些行業(yè)常需要純凈的蒸餾水，但傳統(tǒng)蒸餾法制取蒸餾水存在能耗高、不穩(wěn)定、不環(huán)保的缺陷，漸漸退出歷史的舞臺(tái)。取而代之的環(huán)保的CEDI技術(shù)。
水處理混床系統(tǒng)
一般處理工藝：反滲透+EDI+混床工藝替代傳統(tǒng)純蒸餾方法已經(jīng)成為當(dāng)今世界用水生產(chǎn)技術(shù)的主流。近年來(lái)代表制藥用水制備工藝技術(shù)水平的連續(xù)電去離子技術(shù)(Continuous Electrodeionization CEDI)的出現(xiàn)，促使用水制備工藝摒棄伴生廢酸、廢堿污染的傳統(tǒng)離子交換技術(shù)，令系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制，連續(xù)生產(chǎn)，安全無(wú)污染。
反滲透純凈水設(shè)備--低成本、高質(zhì)量。
二、EDI簡(jiǎn)介：
EDI即連續(xù)除鹽技術(shù)（EDI，Electro deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被去除的過(guò)程。這一過(guò)程中離子交換樹(shù)脂是被電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出電阻率達(dá)17 MΩ·cm的超純水。
三、工作原理：
在一對(duì)陰陽(yáng)離子交換膜之間充填混合離子交換樹(shù)脂就形成了一個(gè)EDI單元。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽(yáng)離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個(gè)EDI單元隔開(kāi)，形成濃水室。在給定的直流電壓的推動(dòng)下，在淡水室中，離子交換樹(shù)脂中的陰陽(yáng)離子分別在電場(chǎng)作用下向正負(fù)極遷移，并透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入濃水室，同時(shí)給水中的離子被離子交換樹(shù)脂吸附而占據(jù)由于離子電遷移而留下的空位。通過(guò)這樣的過(guò)程，給水中的離子穿過(guò)離子交換膜進(jìn)入到濃水室被去除而成為除根水。帶負(fù)電荷的陰離子（例如OH-、Cl-）被正極（+）吸引而通過(guò)陰離子交換膜，進(jìn)入到鄰近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到鄰近的陽(yáng)離子交換膜，而陽(yáng)離子交換不允許其通過(guò)，這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽(yáng)離子（例如Na+ 、H+）以類(lèi)式的方式被阻隔在濃水中。在濃水中，透過(guò)陰陽(yáng)膜的離子維持電中性。
四、應(yīng)用領(lǐng)域：
超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)等。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、發(fā)電廠(chǎng)的鍋爐補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用超純水。

超純水設(shè)備采用的反滲透技術(shù)和EDI技術(shù)相結(jié)合的制水技術(shù)，被廣泛應(yīng)用在各個(gè)行業(yè)，那么超純水系統(tǒng)一般采用什么工藝呢，您的行業(yè)適合那種工藝呢?下面我們就了解一下：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(工藝)
超純水設(shè)備
超純水設(shè)備
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
超純水系統(tǒng)一般采用以上幾種工藝，以上工藝各有各的優(yōu)勢(shì)，用戶(hù)可以根據(jù)自身的情況選購(gòu)適合自己超純水設(shè)備工藝。

生活水處理設(shè)備主要包括了軟水機(jī)、純水機(jī)、凈水器、精密過(guò)濾器和開(kāi)水龍頭以及路設(shè)計(jì)、設(shè)備安裝和售后服務(wù)等，這是一整套為消費(fèi)者提供的水處理設(shè)備。目前市場(chǎng)上水處理設(shè)備也主要包括軟水機(jī)、純水機(jī)、凈水器類(lèi)型。
主要特點(diǎn)
1、不改變水的化學(xué)性質(zhì)，對(duì)人體無(wú)任何。
2、除垢效果明顯。該設(shè)備安裝在水循環(huán)系統(tǒng)，對(duì)原有垢厚在2mm以下的，一般情況下30天左右可逐漸使其松動(dòng)脫落，處理后的水垢呈顆粒狀，可隨排污管路排出，不會(huì)堵塞管路系統(tǒng)，。舊垢脫落以后，在一定范圍內(nèi)不再產(chǎn)生新垢。
3、設(shè)備體積小，安裝簡(jiǎn)單方便，可長(zhǎng)期無(wú)人值守使用。
4、水流經(jīng)設(shè)備以后，可使水變成磁化水，而且對(duì)于水中有一定的抑制和殺滅作用。
5、不腐蝕設(shè)備，可延長(zhǎng)伺服設(shè)備的使用壽命。
應(yīng)用領(lǐng)域
1、生活設(shè)施領(lǐng)域：各式熱水鍋爐、中央空調(diào)、換熱系統(tǒng)、家用中央空調(diào)、壁掛鍋爐等。
2、工業(yè)通用設(shè)備：空壓機(jī)、制冷機(jī)、換熱器、冷卻器等。
3、行業(yè)應(yīng)用：食品、制藥、酒類(lèi)等行業(yè)用水設(shè)備的防垢、除垢、磁化、殺菌滅藻。
工作原理
任何物質(zhì)都有自己固有的頻率，水垢屬于無(wú)機(jī)鹽類(lèi)，一般設(shè)備的外殼都是金屬材料制作，水垢和金屬材料的振蕩頻率不同。SLGP型電子水處理儀釋放的高頻振蕩波對(duì)于附著在金屬材料表面的水垢產(chǎn)生共振，即擊碎剝離，由表及里，循環(huán)進(jìn)行，從而達(dá)到除垢的效果。
同時(shí)，當(dāng)水流經(jīng)高壓、高頻電磁場(chǎng)時(shí)，水中的重碳酸鹽中的鈣、鎂離子和各重碳酸根離子會(huì)在高壓、高頻電磁場(chǎng)的作用下，失去化學(xué)性、物理性和相互吸引的能力，逐漸形成晶體團(tuán)沉入底部，隨排污排出，從而達(dá)到防垢的目的。
水處理設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，它利用模塊兩端電極使水中的帶電離子移動(dòng)，并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜，以加速離子移動(dòng)去除，進(jìn)而達(dá)到水的純化，產(chǎn)水電阻率可達(dá)到15--18M。而離子交換樹(shù)脂再生所需的氫根及氫氧跟則來(lái)自于高壓電下，由水中的解離所供給，這樣就無(wú)需用酸、堿來(lái)進(jìn)行再生還原。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類(lèi)。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線(xiàn)路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過(guò)各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車(chē)、家電表面拋光處理。
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